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                          CVD管式爐

                          管式爐

                          最小起訂量:0
                          添加時間:2016-07-27
                          產品詳細信息

                          一、產品特點:

                          化學氣相沉積(CVD)系統主要用于材料的氣相生長制備,它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室,借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態薄膜工藝的制作設備。主要用于微電子方面的Si3N4,GaAs等薄膜,石墨烯、碳納米材料的制備、半導體、光學材料、電池材料研發等領域,也可用于真空燒結、氣氛保護燒結、材料還原等實驗。

                          設備組成:化學氣相沉積系統由管式爐、供氣系統、真空機組組合而成。

                           二、技術參數:

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                          基本配置:

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